???? ???? ??????? ??????

مقیاس گذاری طول دروازه منجر به بهبود قابل توجهی در عملکرد دستگاه نیمه هادی شده است. با این حال، پیچیدگی های ساخت نیز افزایش یافته است و کنترل عیوب سطحی برای افزایش عملکرد بسیار حیاتی می شود. به طور خاص، فرآیند پرداخت مکانیکی شیمیایی (CMP) به عنوان اسکرابر صنعتی یکی از کثیف ترین فرآیندها برای آلودگی سطح بیسون صنعت ویفر در نظر گرفته می شود. و براش اسکرابر موثرترین روش برای تمیز کردن در محل پست CMP است. بسیاری از مقالات مکانیسم اسکرابر برس را گزارش کرده اند و کارایی حذف ذرات را بر اساس ذرات باقیمانده در تمیز کردن اسکرابر پس از برس پیشنهاد کرده اند. با این حال، نگرانی های مرتبط با آلودگی سطح برس به ویفر به درستی مورد توجه قرار نگرفته است، اگرچه تولید واقعی مشکلات زیادی در این مورد دارد. این مقاله آلودگی متقاطع در فرآیند اسکرابر برس را مورد بحث قرار می دهد و تاکید می کند که تمیز کردن بهینه باید علاوه بر کارایی حذف ذرات برس، آلودگی متقاطع برس را نیز در نظر بگیرد.

مقیاس گذاری طول دروازه منجر به بهبود قابل توجهی در عملکرد دستگاه نیمه هادی شده است. با این حال، پیچیدگی های ساخت نیز افزایش یافته است و کنترل عیوب سطحی برای افزایش عملکرد بسیار حیاتی می شود. به طور خاص، فرآیند پرداخت مکانیکی شیمیایی (CMP) به عنوان اسکرابر صنعتی یکی از کثیف ترین فرآیندها برای آلودگی سطح بیسون صنعت ویفر در نظر گرفته می شود. و براش اسکرابر موثرترین روش برای تمیز کردن در محل پست CMP است. بسیاری از مقالات مکانیسم اسکرابر برس را گزارش کرده اند و کارایی حذف ذرات را بر اساس ذرات باقیمانده در تمیز کردن اسکرابر پس از برس پیشنهاد کرده اند. با این حال، نگرانی های مرتبط با آلودگی سطح برس به ویفر به درستی مورد توجه قرار نگرفته است، اگرچه تولید واقعی مشکلات زیادی در این مورد دارد. این مقاله آلودگی متقاطع در فرآیند اسکرابر برس را مورد بحث قرار می دهد و تاکید می کند که تمیز کردن بهینه باید علاوه بر کارایی حذف ذرات برس، آلودگی متقاطع برس را نیز در نظر بگیرد.